Spellman High Voltage Semicondutores – Implantação de Íon e Litografia

Fontes de Alimentação para Dispositivos de Armazenamento de Memória
Semiconductor: Ion Implantation and LithographyConstruir dispositivos de armazenamento de memória com suas crescentes capacidades e semicondutores com larguras de linha decrescentes requer fontes de potência de alta tensão eficientes e com melhor controle. A Spellman projeta fontes de alimentação de até 400 kV para operar nas severas condições de arcos encontradas em vários processos a vácuo, tais como causticação com feixe de íons, deposição de vapor com feixe de elétrons, e implantação com íons. Adicionalmente, nossas fontes são construídas com os circuitos de precisão necessários para produzir as saídas de baixa ondulação e alta estabilidade exigidas em litografia com feixe de elétrons. A experiência e projetos de ponta da Spellman tornaram-nos a escolha preferida para indústrias que requerem soluções inovadoras para os desafios criados por aplicações emergentes. Estamos dedicados a fornecer apoio para novos desenvolvimentos nas indústrias mais tecnologicamente avançadas que requerem fontes de alimentação de cc de alta tensão.

(Fotografia cortesia da Veeco Instruments Inc.)